这款
薄膜厚度均匀性测量仪采用光谱反射计技术测量整个样品薄膜面积的
薄膜厚度和薄膜折射率等参数，获得
整面薄膜厚度分布和
薄膜厚度均匀性参数。
这款薄膜厚度均匀性测量仪具有较长工作距离，工作距离可调，超大样品台，可选光源等特点。
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薄膜厚度均匀性测量仪特点
易于安装
软件基于Windows系统，方便使用
**光学设计，良*系统表现
阵列光谱探测器保证快速测量
测量薄膜厚度和折射率高达5层
可测量反射，透射和吸收光谱
可用于实时在线的薄膜厚度和折射率测量
具有齐全的材料光谱舍数据库
可升级到显微分光光度计
适合不同衬底和不同薄膜厚度测量
薄膜厚度均匀性测量仪参数
波长范围：250-1050nm
光点大小：500um - 5mm
样品大小：300mm 直径
衬底厚度： 高达50um
测量薄膜厚度范围： 10nm -50um
重复定位精度：1um
测量时间：***小2ms
精度：0.5%
重复精度：<1A
薄膜厚度均匀性测量仪应用
半导体制造
液晶显示屏测量
刑侦
生物膜测量
矿石地质分析
制药医学分析
光学镀膜测量
功能薄膜MEMS测量
太阳能电池薄膜测量
