这款
薄膜溶解测厚仪用于实时监测薄膜在液体中薄膜厚度变化和光学常量（n, k)变化，是全球**的
薄膜溶解测量仪和
薄膜溶解测试仪。为了这种特色的测量，我们特意为
薄膜溶解测厚仪研发了Teflon样品池用于测量薄膜样品，使用一种岔头探针水平安装在Teflon 样品池的外部，距离玻璃窗口非常接近，使用白光反射光谱技术（WLRS)，实时测量薄膜厚度和折射率，并通过专业软件记录下这些数据。
另外，根据需要，我们还能够在测量区域下安装搅拌装置stirrer，提供力学激励振动。
我们还特意为该
薄膜溶解测量仪提供垂直的样品夹具，以固定小尺寸的硅样品或3''，4''直径的Si 晶圆。
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薄膜溶解测量仪根据溶解过程的不同，如溶解速度的不同，该薄膜溶解测试仪能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。
这套薄膜溶解测量仪,还能够测量几十个纳米厚度的光致抗蚀剂和聚合物薄膜堆的溶解过程。薄膜溶解测试仪而且还可以测量薄膜的膨胀等特殊现象。
对于薄膜厚度的测量，薄膜溶解测厚仪需要光滑，具有反射性的衬底，对于光学常数测量，平整的反射衬底即可满足测量需要。如果衬底是透明的，衬底的背面不能具有反射性。该薄膜溶解分析仪能够给出两个参数：例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量。
这套薄膜溶解测厚仪已经成功应用于测量反射衬底（Si晶圆）上各种光滑，透明或轻度吸收薄膜的溶解过程，可研究的薄膜包括SiO2薄膜,SiNx薄膜,光致抗蚀剂薄膜，聚合物薄膜层等。
薄膜溶解测厚仪标准参数
可测膜厚： 5nm-150微米；
波长范围：200-1100nm
精度：0.5%
分辨率：0.02nm
测量点光斑大小：0.5mm
可测样品大小：10-100mm
计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；
尺寸：360x400x180mm
重量：15kg
电力要求：110/230VAC
薄膜溶解测厚仪应用：
聚合物薄膜
光致抗蚀剂薄膜测量
化学和生物薄膜测量，传感测量
光电子薄膜结构测量
在线测量
光学镀膜测量
能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。
这款薄膜溶解测量仪用于实时监测薄膜在液体中的薄膜厚度和光学常量（n, k)的变化,是测量薄膜溶解速度的薄膜溶解分析仪.
