光刻掩膜版

光刻掩膜版专业用于微电子高精度光刻掩膜而设计，采用卤化银感光物质，也可用于同步加速器设备中的布拉格衍射X射线断层摄影和X射线放射成像。
光刻掩膜版使用寿命：12个月
光刻掩膜版寿命：18个月。
光刻掩膜版VRP是Agfa（Millimask）和柯达（HR-P，TE）板的实际替代品。
光刻掩膜版是专为制造用于微电子学的高精度掩模而设计的。 该材料也用于许多欧洲同步加速器设备中的布拉格衍射X射线断层摄影和放射成像。 高分辨率，高耐久性和*异的乳剂层与玻璃基底的粘附能够记录小于2.5微米的照相特征。
所有光刻掩膜版通常以每个6个单位的纸板包装提供。 标准尺寸***大的板尺寸为406×300mm。 标准玻璃厚度为2.5 mm。 所有光刻掩膜版都配有防晕涂层。 定制玻璃尺寸和薄膜基材可根据要求提供任何乳液。 保质期 - 12个月。

VRP光刻掩膜版特性

平均敏感度，ISO 负面过程： 反转过程：	0.02 0.04
对比度不小于	5
***大。 密度不小于	3
光谱敏化***大值，nm：	525
光谱敏化区，nm：	400-565
雾密度不大于	0.02
分辨力，mm-1，不小于：	3,000
乳液层强度加工后，kg力，不小于	0.9
乳液层温度变形，oC，不小于：	55

 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
处理和处理建议
使用深绿色滤光片（透射区域 - 530 nm及以下）在间接非光化光中开封并加工。 加工溶液温度-20±2℃。 储存条件：湿度65％和12-15摄氏度。

VRP材料的推荐加工用于面膜生产
负过程		溶液温度
曝光
显影	研制在蒸馏水中稀释的浓缩VRP显影剂1：5,4-5min	20
冲洗	水3分钟	17±2
固定	固定器5-10分钟	20
洗涤	水3分钟	17±2
***终洗涤	水用润湿剂（Agepon）1min	17±2
干燥	慢气	20±4
冲销过程
曝光
显影	在蒸馏水中稀释的浓缩VRP显影剂1：1.7,4.5min	20
冲洗	水洗3分钟	17±2
漂白	漂白，1.5分钟	20
冲洗	水洗3分钟	17±2
增亮	增亮剂3分钟	20
冲洗	水冲洗5分钟	17±2
照明	500W灯，距离乳液70厘米，1分钟
第二显影	稀释在蒸馏水中的显影浓缩VRP显影剂1：5-3分钟	20
冲洗	水冲洗1分钟	17±2
固定	固定器，2分钟	20±4
冲洗	水洗3分钟	17±2
***终洗涤	带润湿剂的水（Agepon）1min	17±2
干燥	慢气	20±4

 

用于X射线层析成像和放射照相术的VRP光刻掩膜版材料处理方案
程序	化学制品	温度
曝光
显影	柯达RP X-OMAT显影，5分钟	20
洗涤	2分钟	17±2
固定	柯达RP X-OMAT LO固定器，5分钟	20
洗涤	水10分钟	17±2
干燥	慢气	20±4