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多波长激光直写光刻机
  • 多波长激光直写光刻机-多波长激光光刻机提供325nm|375nm|405nm|445nm紫外光对光刻胶直写或紫外敏感胶直接刻划

多波长激光直写光刻机

多波长激光直写光刻机是全球领先的多波长激光光刻机,它提供325nm,375nm,405nm,445nm紫外光源对光刻胶直写或紫外敏感胶直接刻划获得微纳结构,直写面积高达12英寸,最小特征尺寸(宽度)可达1微米,适合掩膜,半导体,玻璃,晶体,薄膜等诸多衬底。适合晶圆直写面积:1-12英寸
型号:
FPKLOE-Dilase750
品牌:
孚光精仪
价格:
¥0.00
类别:
进口光刻机
在线客服邮箱 info@felles.cn 服务热线021-51300728 您也可网站留言或在线客服留言垂询,孚光精仪-领先的进口精密仪器服务商欢迎您!

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多波长激光直写光刻机是全球领先的多波长激光光刻机,它提供325nm,375nm,405nm,445nm紫外光源对光刻胶直写紫外敏感胶直接刻划获得微纳结构,直写面积高达12英寸,最小特征尺寸(宽度)可达1微米,适合掩膜,半导体,玻璃,晶体,薄膜等诸多衬底。
多波长激光直写光刻机
多波长激光直写光刻机提供竖直和扫描直写模式,确保直接轨迹偏离小于100nm。微型激光直写光刻机具有电动光学聚焦系统,提供快速精准的聚焦功能,从而适合各种厚度衬底的要求,并具有晶圆装载和卸载系统装备到衬底室供客户选配,增强清洁程度,提高工作量和用户安全程度。
多波长激光直写光刻机兼容大多数商用光刻胶,比如SU8,shipley, AZ等,我们还对K-CL胶特别优化,用于微结构应用。
多波长激光直写光刻机特色
非常紧凑的桌面型设计
掩膜制作和激光直写
激光光源375nm 或405nm 任选
兼容所有商用光刻胶
对比度高达1x20
自动聚焦
竖直直写或扫描直写模式
多波长激光直写光刻机参数
直线直写速度:高达350mm/s
位移台分辨率:100nm
重复精度:100nm
晶圆直写面积:1-12英寸
衬底厚度:250um-10mm
激光光斑大小:0.5um-100um
标准准直精度:500nm
多波长激光直写光刻机

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