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紫外掩膜曝光系统
  • 紫外掩膜曝光系统_LED紫外曝光机_LED掩膜曝光机是365nm冷光源紫外LED掩膜曝光装置-孚光精仪

紫外掩膜曝光系统

这款紫外掩膜曝光系统是采用紫外LED冷光源的LED紫外曝光机和LED掩膜曝光机,是一种冷光源紫外LED掩膜曝光装置,它提供标准的365nm紫外线,可适用6英寸晶圆,兼容硬接触和软接触过程,并具有可变掩膜和衬底距离控制功能。适合6英寸晶圆.
型号:
FPKLOE-UV-KUB6
品牌:
孚光精仪
价格:
¥0.00
类别:
进口曝光机
在线客服邮箱 info@felles.cn 服务热线021-51300728 您也可网站留言或在线客服留言垂询,孚光精仪-领先的进口精密仪器服务商欢迎您!

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这款紫外掩膜曝光系统是采用紫外LED冷光源的LED紫外曝光机LED掩膜曝光机,是一种冷光源紫外LED掩膜曝光装置,它提供标准的365nm紫外线,可适用6英寸晶圆,兼容硬接触和软接触过程,并具有可变掩膜和衬底距离控制功能。
紫外掩膜曝光系统
紫外掩膜曝光系统适合光学,生物科技,微电子,晶圆键合,固化,细胞培养等多种应用,广泛用于紫外曝光固化。
紫外掩膜曝光系统是完全单色紫外发射,具有35mW/cm^2的功率密度,在6英寸的面积上光源均匀度搞到+/-10%, 是理想的高精度紫外曝光机。
这套紫外掩膜曝光系统采用了领先的LED光源技术,完全实现单波长紫外冷光源照明,有效消除热效应,非常适合实验室或超净间的紫外曝光使用。
紫外掩膜曝光系统结构紧凑,方便移动,采用触摸屏控制操作,完全有效安全控制自我曝光室。
紫外掩膜曝光系统的LED紫外光源寿命高达1万小时,非常可靠而耐用,不需要日常维护,非常方便使用。
紫外掩膜曝光系统
紫外掩膜曝光系统特点
非常紧凑,桌上使用设计
完美的紫外单色LED冷光源
最大工作面积为4英寸晶圆
适合所有光刻胶
分辨率:2微米
无需预热,直接开机使用
实时温度控制功能确保均匀曝光
紫外照明功率强度可调
可单次曝光或连续曝光
适合光学,生物科技,微电子,晶圆键合,固化,细胞培养等多种应用
紫外掩膜曝光系统
紫外掩膜曝光系统参数
波长:365nm
功率密度:40mW/cm^2
曝光过程中衬底温度上升:<1摄氏度
曝光时间:1秒到18小时
可编程控制循环:10个
分辨率:2微米
外部尺寸:260x 260x260mm
重量:8.2kg
彩色触摸屏:5.7英寸
供电要求:230V
用电功耗:200W
紫外掩膜曝光系统

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